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以普通丙烯酸光致抗蚀干膜为抗蚀层,采用对该抗蚀层进行二次UV曝光新工艺.分别以1%、4%的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液为显影液和蚀......
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通过开环聚合反应制备了一系列聚已内酯-b-聚乙二醇-b-聚己内酯(PCL-b—PEG-b-PCL,PECL)三嵌段共聚物。将4-羟基肉桂酸制备成反应活性......
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综述光敏聚酰亚胺作为感光高分子的最新进展,着重叙述了有机硅改性光敏聚酰亚胺,自增感光敏聚酰亚胺和含氟光敏聚酰亚胺的制备方法和......